俄罗斯在光刻机领域取得显著成就

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• 2026-10-01

俄罗斯与白俄罗斯合作研发了一款光刻机试验样机，能够实现130纳米工艺芯片的生产。俄罗斯第一副总理丹尼斯·曼图罗夫在“微电子”论坛上展示了这一成果。此前，俄罗斯已推出350纳米光刻机，这款新样机的问世表明该国在半导体设备技术上迈出了重要一步。

光刻是芯片制造中至关重要的一步，它能够在半导体材料表面形成精细的电路图形。130纳米属于成熟的制造工艺，广泛应用于功率器件、传感器和汽车电子等领域，尽管它尚未达到当前先进逻辑芯片所使用的更小工艺节点。

目前，样机的研制工作已接近尾声，预计将在秋季进行验收，并计划于2027年实现量产。俄罗斯工业贸易部部长阿利哈诺夫表示，国产准分子激光器的试验已完成，该激光器是光刻机的关键部分，目前只有美国和日本有能力生产它。验收测试将于今年秋季开始，并计划在年底前完成。 龙8头号玩家

工贸部副部长什帕克透露，部分验收环节已开始，样机将在年内 ready 并交由相关部门接收。从明年开始，公司可签署合同并开始生产。此外，130纳米光刻机的研发费用约为57亿卢布，计划在2027年实现量产。

在会议中，工贸部机床与重型机械司司长皮文提到，近年来已完成了超过100项微电子研发项目，今年还将继续收尾多项工作，其中就包括130纳米光刻机。他强调，光刻机的关键在于自有的准分子激光器，这决定了能够实现多精细的线路宽度。

不仅如此，350纳米光刻机的生产合同已经签订，目前正处于生产阶段。首台量产型光刻机预计将于2026年12月交付，主要客户为俄罗斯国家技术集团旗下的企业。 龙8头号玩家

在市场方面，全球约51%的微电子产品仍依赖于350纳米及以上的工艺生产，而28纳米以下的产品仅占约16%，预计到2035年仍会保持相近水平。阿利哈诺夫表示，分辨率90纳米的光刻机技术任务也已制定，目前正在寻找合作单位。

与此同时，俄罗斯还在推进电子束光刻技术，这项技术对制造所需的光罩同样重要。曼图罗夫透露，相关项目将在泽列诺格勒科技中心进行，目标是掌握更先进的制作工艺，包括至28纳米。此外，俄罗斯在材料和化学品的生产上也取得了进展，计划在2029年推出约60种新材料。